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  Bake Normal map & ID map  제작된 하이폴리곤 모델을 통해  Substance에서 텍스쳐링을 하기 위한 각종 텍츠쳐를 추출하고 본격적인 텍스쳐링을 위한 준비를 아래 모델을 통해 알아봅니다. dmwlw123님 모델링 Low, High Poly Model 로우폴르 모델은 각각의 파츠가 각각의 메쉬로 나누어저 있고 ID맵 추출을 위해서 재질별로 머터리얼이 설정되어 있어 잘 정리되어 있었습니다. 각기 나누어져있는 파츠에 재질별 머터리얼이 적용되어 있음 우선 해당 로우폴리곤 모델을 FBX로 추출하여 서브스텐스로 가져가 봅니다. 가져가보면  Substance는 머터리얼 별로 텍스처를 나누어 주기 때문에  해당 모델은 5장의 텍스처를 사용하는 것으로 셋팅이 됩니다.   현재 제작된 메쉬의 UV는 1장의 맵핑을 사용하는 것으로 맵이 펴있기 때문에 텍스쳐는 한장만 사용할 수 있도록 모델링을 다시 정리하여 가져와 보겠습니다. 편의를 위해 블랜더에서 각 재질별로 매쉬를 합치고  머터리얼적용도 해제 하였습니다.  (ID Map을 뽑는 것은 다른 방식으로 진행해 보겠습니다.)  해당 모델을 다시 Substance로 들고 왔습니다.  우측에 텍스처 목록은 1개로 적용된것을 보실수 있습니다.  이제 ID Map을 추출해 보겠습니다. 텍스쳐 세트 설정에서 '메시 맵 베이킹'을 진행합니다. ID맵만 베이트할 예정이니 Common settings에서 ID만 체크해주시고 오른쪽에서 '로우폴리 메시를 하이폴리 메시로 사용을' 활성화 해줍니다. 그리고 ID맵 슬롯을 선택한 다음 '색상 소스'를 '메시ID/폴리그룹' 으로 지정해 줍니다. '메시ID/폴리그룹'  은 ID 맵을 만들때 메쉬 단위로 만들어 줍니다.  해당 모델은 재질별로 메쉬를 나누어 주었기 때문에 해당 방식으로 ID맵을 만들어 줄 수 있습니다. 베이크 해주고 ID을 확인해 봅니다. 만들...

  하이폴리곤 모델의 음영 정보를 잘 추출하기 위해서는   잘 만들어진 로우 폴리 모델이 필요합니다.  다만 로우 폴리 모델을 제작하는데도 꽤 많은 시간이 들기 때문에 해당 글에서는 하이폴리곤 모델을 Decimate로 최적화 하여 로우폴리곤 모델을 만들어 노멀맵을 뽑는 과정을 설명하겠습니다. (해당 과정은 테스트를 위한 로우폴리 모델 만들기 정도로 봐주시면 됩니다. 실제 로우 폴리 모델링은 리토톨로지로 잘 만들어 주세요)   yeonhan22님 모델링을 참고로 설명합니다. 로우 폴리 모델에 적용한 노멀맵 아래 모델의 폴리곤은 약 25만개 으로 게임데이터로 쓰기에는 다소 폴리곤이 많으므로 로우 폴리 모델을 만들어 노멀맵을 베이크하여 사용하려 합니다. yeonhan22님 모델 기본적으로 로우폴리 모델은 리토폴로지를 통해 깔끔하게 제작되어야 하나  여기서는 테스트로 Decimate를 이용하여 간단히 로우폴라 모델을 만들어 사용하겠습니다. 폴리곤으로 제작된 새 문양은 노멀맵을 베이크 하기위한 용도로만 쓸 예정이므로 로우폴리곤의 구성에서는 제외합니다.  하이폴리곤 모델을 하나 복사하여 새는 지워줍니다. Modifier 텝에서 Decimate를 적용하여 줍니다.  Ratio를 적절하게 줄여줍니다. 저는 0,1정도로 줄여 주었습니다. 외형은 유지한 상태에서 어느 정도 모델의 폴리곤 갯수를 줄여줍니다. 물론 폴리곤 구조는 맘에 들지 않지만 테스트를 위한 거니 그대로 진행합니다. (Un-Subdivide를 이용하면 외형보다 폴리곤 구조를 유지하면서 면을 줄이는데 중점을 두고 작업 할 수도 있습니다.) 폴리곤은 약 4000정도로 줄어 들었습니다.     로우폴리 모델은 UV를 펴줘야 합니다.      물론 Smart UV로는 이렇게 복잡한 구조는 산산 조각을 내주기 때문에      어느정도 수동으로 펴줄 필요가 있습니다. 적절한 ...